TN-MS500S-2TA1S雙靶磁控濺射及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規(guī)管，進氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。

設(shè)備主機采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺。真空腔體采用304不銹鋼制成，配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細，真空性能優(yōu)異。主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優(yōu)良，能有效保證鍍膜質(zhì)量。真空室采用下置靶設(shè)計，樣品臺具有加熱和旋轉(zhuǎn)但是功能，可以使鍍膜效果更加均勻。設(shè)備真空獲得系統(tǒng)采用兩級真空泵組，前級泵為大抽速機械泵，有效縮從常壓至低真空的時間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

特點

1.磁控濺射 熱蒸發(fā) 多功能切換鍍膜

2.靶材下置 樣品臺旋轉(zhuǎn)

3.兩級真空分子泵，抽速高真空獲取速度快

4.觸屏數(shù)據(jù)化操作界面

應(yīng)用領(lǐng)域

可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。

名稱	磁控濺射蒸發(fā)二合一真空PVD鍍膜儀
型號	TN-MS500S-2TA1S
樣品臺	尺寸 150mm 加熱溫度 ≤500℃ 旋轉(zhuǎn)速度 1-20r/min 控溫精度 ±1℃
磁控濺射頭	數(shù)量 2英寸 x2 冷卻方式 水冷
蒸發(fā)系統(tǒng)	蒸發(fā)源 鎢絲籃 *高溫度 1500℃ 熱電偶 S型熱電偶
真空腔體	腔體尺寸 φ300mm X 300mm 觀察窗口 φ100mm 腔體材料 304不銹鋼 開啟方式 前開門式
電源配置	直流電源數(shù)量 1臺 輸出功率 ≤1000W  輸出電壓 ≤600W 響應(yīng)時間 ＜5ms  射頻電源數(shù)量 1臺 輸出功率 ≤1000W  功率穩(wěn)定度 ≤5W 射頻功率 13.56MHz 射頻穩(wěn)定度 ±0.005%
膜厚監(jiān)控系統(tǒng)	膜厚儀測量分辨率 ±0.03Hz 測量精度 ±0.5% 測量上限 50000 測量速度 100~1000ms
水冷系統(tǒng)	水箱容積 9L 流量 10L/min
供氣系統(tǒng)	質(zhì)量流量計 量程 200sccm， 氣體類型 Ar氣
其他	供電電壓 AC220V,50Hz 整機尺寸 1400x750x1300mm 整機功率 4kw（主機+真空泵） 整機重量 295kg