0371-5536 5392 0371-5519 9322
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等離子加強化學沉積PECV... 等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度，等離子加強化學沉積...
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卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備，該卷對卷式PECVD適合用于石墨烯在卷材上的連續(xù)生長
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?單溫區(qū)旋轉PECVD石墨... ?單溫區(qū)旋轉PECVD石墨烯制備廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上，該單溫區(qū)旋轉PECVD石墨烯制備適合顆粒型樣品...
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1200℃單溫區(qū)3路質量供... 1200℃單溫區(qū)3路質量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。該1200℃單溫區(qū)3路質...
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1200℃單溫區(qū)3路質量供... 1200℃單溫區(qū)3路質量供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。該1200℃單溫區(qū)3路質...
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1200℃單溫區(qū)3路浮子供... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)TN-O1200-50IT-3F-HV 由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真...
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三溫區(qū)三通道CVD混洗系統(tǒng) TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE認證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其管徑為80mm，采用機械泵，它是由管式爐，...