0371-5536 5392 0371-5519 9322
新聞詳情
三靶磁控濺射性能介紹
日期：2025-04-20 06:22
瀏覽次數(shù)：410
摘要：
三靶磁控濺射性能介紹
三靶磁控濺射是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器，于2019年1月1日啟用。
三靶磁控濺射是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器，于2019年1月1日啟用。
技術(shù)指標(biāo)
樣品能加熱到600℃，控制精度不大于±1℃；射頻電源頻率13.56MHZ，功率0-600W可調(diào)，功率不穩(wěn)定度≤2W，自動匹配調(diào)節(jié)，配備自動匹配器，匹配時間精度不大于5秒。高性能真空系統(tǒng)，極限真空6×10-5Pa；沉積200nm的薄膜。在3英寸平面基底上十字交叉取9個點(diǎn)進(jìn)行測試。薄膜厚度不均勻性≤±5%，邊緣去除5mm。
主要功能
三靶磁控濺射可使用單/雙/三靶對同一基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜實驗，配備加熱系統(tǒng)可以將抽真空速度加快，本底真空降低；可使用雙/三靶濺射制備摻雜薄膜，較非摻雜薄膜性質(zhì)變多，性能不同，更利于發(fā)現(xiàn)新功能、高性能薄膜。設(shè)備自動化程度較高，開/關(guān)機(jī)配備一鍵啟動/關(guān)閉功能，方便操作。
尊敬的客戶：
本公司還有流延涂布機(jī)、小型行星真空攪拌機(jī)、小型實驗室壓片機(jī)等產(chǎn)品，您可以通過網(wǎng)頁撥打本公司的服務(wù)電話了解更多產(chǎn)品的詳細(xì)信息，至善至美的服務(wù)是我們的追求，歡迎新老客戶放心選購自己心儀產(chǎn)品，我們將竭誠為您服務(wù)！