名稱

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

特點(diǎn)

• 鍍膜速率高，樣品溫升低，典型的高速低溫濺射
• 偏壓電源增強(qiáng)離子的能量，提高成膜質(zhì)量和薄膜的附著力
• 觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手

技術(shù)參數(shù)

• 供電電壓： AC220V，50Hz

• 整機(jī)功率 ：3KW

• 極限真空度 ：10-6torr

• 載樣臺參數(shù)： 尺寸 φ140mm； 加熱溫度 *高500℃； 控溫精度 ±1℃； 轉(zhuǎn)速 1-20rpm可調(diào)

• 磁控濺射頭：2個2”磁控濺射頭； 水冷（水冷機(jī)規(guī)格 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)）

• 真空腔體 ：尺寸 φ300mm X 300mm H，不銹鋼

• 觀察窗口 ：φ100mm
•  開啟方式： 上頂開式，便于更換靶材

• 氣體流量控制器： 2路分別通Ar，N2； 量程均為0-100sccm

• 真空泵 ：配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S

• 膜厚儀： 石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?

• 濺射電源 ：直流電源一臺，1000W，適用于制備金屬膜射頻電源一臺，500W，適用于非金屬鍍膜

• 操作方式 面板按鈕操作

規(guī)格

 尺寸：1400mm X 750mm X 1300mm；重量：300kg